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MIC陰極電弧離子涂層設備
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產品詳情
MIC陰極電弧離子涂層設備

設備簡介

MIC陰極電弧離子涂層設備是我公司經過多年研發(fā)與完善,并有較高市場占用率的一款鍍膜設備。設備采用新型大面積陰極電弧技術、IET刻蝕、偏壓等鍍膜技術,配備可移動式工件轉架,適用于在各種刀具和模具以及零部件表面沉積高性能的耐磨、防腐、抗氧化等硬質涂層。

設備特點

  • 大面積弧源技術具有弧斑移動速度快、離化率高、等離子體能量大
  • IET刻蝕輔助技術提高結合力、涂層致密細膩
  • 沉積速率快、靶材利用率高
  • 單層和多層復合
  • 合理的結構設計、成熟的工藝參數(shù)
  • 穩(wěn)定的控制系統(tǒng)、遠程操作與監(jiān)控

設備參數(shù)

設備型號

MIC-900

MIC-1200

MIC-1800

MIC-2200

有效涂層區(qū)域

∅700×600

∅700×900

∅700×1500

∅700×1800

可選配置

大面積陰極電弧、IET刻蝕、偏壓

涂層工藝時間

4-6h

涂層類別

TiN、CrN、TiCN、AlTiN、AlCrN、AlTiSiN、AlCrSiN等

系統(tǒng)最高溫度

550℃

沉積溫度

<500℃

最大載荷重量

1000Kg/2000Kg

涂層性能參數(shù)

涂層名稱

涂層厚度(μm)

涂層硬度

(HV)

工作溫度

摩擦系數(shù)

涂層顏色

 TiN

2-6

2500

600

0.2

金黃色

CrN

2-10

2500

600

0.2

銀灰色

TiCN

2-4

2800

500

0.2

灰黑色

AlTiN

2-5

3300

900

0.5

藍黑色

TiAlN

2-6

3300

900

0.4

紫黑色

AlCrN

2-5

3200

1000

0.35

黑灰色

AlTiSiN

2-4

3300

1100

0.3

土黃色

 

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