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設(shè)備簡(jiǎn)介

MSC磁控濺射涂層設(shè)備采用新型平面陰極磁控濺射源、旋轉(zhuǎn)陰極磁控濺射源等，配備離子源、燈絲、偏壓等先進(jìn)輔助技術(shù)，結(jié)合智能擋板和可移動(dòng)式工件轉(zhuǎn)架，可在各種刀具、模具、零部件表面沉積高性能的硬質(zhì)涂層。

配備旋轉(zhuǎn)陰極磁控濺射源專(zhuān)門(mén)用于沉積高性能的超光滑、超致密、超硬膜層。如AlTi基、AlCr基、Si-含硅、B-含硼金屬氮化物等涂層。

磁控濺射系列涂層設(shè)備因其高性能和高可靠而成為工藝涂層的理想系統(tǒng)。

設(shè)備特點(diǎn)

• 平面陰極磁控濺射源、旋轉(zhuǎn)陰極磁控濺射源離化率高
• 大面積平面靶材、大長(zhǎng)度柱狀靶材利用率高        
• 沉積速率快、涂層致密細(xì)膩
• 單層和復(fù)合多層納米結(jié)構(gòu)膜層
• 合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、成熟的工藝參數(shù)
• 穩(wěn)定的控制系統(tǒng)、遠(yuǎn)程操作與監(jiān)控

設(shè)備參數(shù)

涂層性能參數(shù)